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高比表氫氧化鈣設(shè)備與普通氫氧化鈣設(shè)備有什么不同?

時(shí)間:2023-08-30 09:06:00 來(lái)源:洛陽(yáng)鈣豐工貿(mào)有限公司

  高比表面積氫氧化鈣設(shè)備該設(shè)備可用于生產(chǎn)高比表面積的氫氧化鈣。

  高比表面積氫氧化鈣是一種具有較大比表面積的氫氧化鈣粉,其比表面積較一般氫氧化鈣粉更大,因而在一些特定的應(yīng)用領(lǐng)域顯示出了良好的應(yīng)用前景。

  高比表面積氫氧化鈣裝置與一般的氫氧化鈣裝置在原材料的選擇,生產(chǎn)工藝和設(shè)備的結(jié)構(gòu)上都存在著較大的差異。生產(chǎn)高比表面積的氫氧化鈣,不僅需要用到細(xì)粉,而且通常還需要細(xì)粉的破碎、分級(jí)過(guò)程。同時(shí),對(duì)該裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了改造,使之能夠滿(mǎn)足高比表面積的氫氧化鈣磨粉的需要。因此,高比表的氫氧化鈣機(jī)相對(duì)于一般的氫氧化鈣機(jī)也更加的專(zhuān)門(mén)化和精細(xì)化。

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